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Hohlkathodenverfahren

Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnik

Hohlkathoden Rundquelle in Betrieb

Hohlkathoden CVD-Prozesse

Aufgrund ihrer hohen Plasmadichte eignen sich Hohlkathoden-Glimmentladungen sehr gut zur Anregung plasmagestützer CVD-Prozesse (chemical vapour deposition), sowie auch für Ätz- und Aktivierungsprozesse an Oberflächen.

Als entsprechende Plasmaquellen eignen sich Gasfluss-Sputterquellen, die dann unter modifizierten Betriebsparametern eingesetzt werden. So kann unter anderem erreicht werden, dass die das Plasma erzeugenden Elektroden selbst nicht beschichtet werden, wodurch eine Störung des Beschichtungsprozesses vermieden wird.

Für Sonderanwendungen wurden weitere Hohlkathoden-CVD-Quellen entwickelt, beispielsweise die SHC-Quelle und die MHC-Quelle. Diese dient der Herstellung von DLC-Schichten, jene der Beschichtung von Metallband.

Zuletzt aktualisiert am: 2013-09-22 21:57:42 CEST
Quelle: http://hohlkathoden.fraunhofer.de/de/hk-cvd-prozesse/
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