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Hohlkathodenverfahren

Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnik

Hohlkathoden Rundquelle in Betrieb

Cluster- und Nanopartikel-Erzeugung

Aufgrund des hohen Arbeitsdruckes des GFS-Prozesses kommt es unter bestimmten Bedingungen zur homogenen Nukleation der vom Target abgetragenen Einzelatome. Das bedeutet, sie bilden auf ihrem Weg zum Substrat zunächst Nanocluster und später auch Nanopartikel. Während bei diffusionsbasierten Beschichtungsverfahren dieser Mechanismus mit einem starken Abfall der Beschichtungsrate einhergeht, ist beim Gasflusssputtern ein hoher Druck gerade Voraussetzung für einen effizienten Materialtransport.

Zur Herstellung von Nanopartikeln können die gleichen GFS-Quellen wie für das normale Gasflusssputtern eingesetzt werden, nur unter modifizierten Betriebsbedingungen.

Bisher wurden erfolgreich Wolfram-, Kupfer- und Silber-Nanopartikel hergestellt sowie verschiedene Nanokompositschichten.

Bilder

Zuletzt aktualisiert am: 2013-09-22 21:57:42 CEST
Quelle: http://hohlkathoden.fraunhofer.de/de/anwendungen/cluster-und-nanopartikel-erzeugung/
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